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"Litografía Ultravioleta Extrema en la industria de los semiconductores" - Seminario a cargo del Dr. Roni LeviDr.
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En esta ocasión, el expositor será Roni Levi, quien nos hablará sobre "Litografía Ultravioleta Extrema en la industria de los semiconductores".
Roni realizó una Maestría en Ingeniería Química del Technion-Instituto de Tecnología de Israel y un Doctorado en Ciencia de Materiales e Ingeniería de la Universidad Estatal de Pensilvania. Actualmente es Gerente de Tecnología para Semiconductores en Corning Inc. También ha trabajado con empresas como Intel y Tower Semiconductors.
Resumen:
La presentación comenzará con una breve revisión de la industria de los semiconductores, seguida de una visión general de la litografía destinada a la misma. Posteriormente, se describirá la transición hacia longitudes de onda más pequeñas y/o aperturas numéricas más grandes, y su correlación con los nodos tecnológicos en la industria de los semiconductores.
El énfasis principal estará en la litografía UVE (Ultravioleta Extrema), una forma especializada de fotolitografía que emplea luz ultravioleta extrema para crear patrones complejos en obleas de silicio. La litografía UVE ha evolucionado significativamente desde su inicio en la década de 1980. Para 2019, los primeros teléfonos inteligentes disponibles comercialmente, producidos a través de litografía UVE, corroboraron que dicha tecnología había ingresado a la fabricación de alto volumen. El próximo paso es la implementación de una apertura numérica alta que resultará en una resolución aún mejor. La presentación también cubrirá una visión general de los obstáculos tecnológicos actuales en este campo, así como su impacto en la industria de semiconductores.
